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China's EUV technology 'at a similar stage to ASML in 2004,' analyst claims — Beijing's semiconductor industry remains well behind Western rivals
📌 概要
有分析师称，中国EUV光刻技术大致相当于ASML在2004年的水平。尽管传闻不断，但没有证据表明中国光刻设备厂商能够量产浸没式光刻机，北京半导体产业在设备环节仍明显落后于西方竞争对手，国产替代尚需时间。
⚡ 关键要点
- ▸分析师称中国EUV技术相当于ASML在2004年的水平
- ▸无证据显示中国厂商能量产浸没式光刻机
- ▸中国半导体设备产业仍显著落后于西方对手
Despite rumors, there is no evidence that Chinese makers of lithography tools can produce immersion lithography scanners in quantity.