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用时不到两年半:英特尔 High-NA EUV 晶圆处理量突破百万片,超越其他厂商总和
📋总体概括
英特尔宣布其High-NA EUV光刻设备累计处理300mm晶圆突破100万片,距首台设备完成组装不到两年半。公司目前拥有两台ASML Twinscan EXE:5000原型机及至少一台EXE:5200B量产机型,处理量从2025年2月的约3万片跃升至当前百万片。参照ASML今年一季度披露的全行业累计50万片数据,英特尔一家的处理量已超过其他所有用户总和,显示出其在下一代光刻技术上罕见的工艺领先地位。
⚡关键信息
- ▸英特尔High-NA EUV累计处理300mm晶圆突破100万片,距首台设备组装完成不到两年半
- ▸英特尔拥有两台ASML EXE:5000原型机及至少一台EXE:5200B量产机型
- ▸2025年2月累计约3万片,至2026年9月突破百万,增长超30倍
- ▸ASML今年一季度财报显示全球High-NA EUV累计超50万片,可用率超80%,英特尔一家超其他用户总和
🔥犀利点评
百万片这个数字与其说是产能胜利,不如说是宣传檄文——两台原型机加一台量产机处理百万片,恰恰说明英特尔是唯一真金白银押注High-NA的玩家,同行都在观望等成熟。晶圆量领先不等于良率领先,更不等于14A能如期量产翻身。但至少在制程竞赛的下一局,英特尔拿到了先手,这是这几年它为数不多能晒的牌。
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