阿斯麦与台积电推动高NA EUV光罩向12英寸升级，计划2031年建立试产线

📋总体概括

阿斯麦与台积电联合成立行业合作计划，推动高NA EUV光刻的光罩从6英寸升级到12英寸，目标是提升晶圆厂生产效率、降低成本并消除光罩拼接限制。双方规划2031年建立12英寸光罩试产线，2033年推动12英寸高NA EUV光刻系统进入先进制程量产；台积电则预计自2030年起在先进制程大规模量产中引入ASML高NA技术。这一时间表勾勒出高NA EUV从导入到全面产业化的路径，也意味着光罩供应链需提前多年同步扩尺寸。