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京都大学打造可承受600°C高温、且兼容标准晶圆厂的晶体管 — 标准离子注入与底栅设计解决漏电与电压漂移

原标题: 京都大学打造可承受600°C高温、且兼容标准晶圆厂的晶体管 — 标准离子注入与底栅设计解决漏电与电压漂移

TomsHardware·2026/8/24 10:30:00🔗 原文

📋总体概括

京都大学团队利用标准离子注入工艺和底栅结构,研制出可在600°C(873K)高温下持续工作的碳化硅晶体管,并解决了高温下的漏电和阈值电压漂移两大顽疾。关键在于该器件采用与标准半导体产线兼容的制造方式,无需特殊工艺,这意味着SiC高温器件有望从实验室特制品走向常规晶圆厂量产,对航空航天、地热勘探、喷气发动机传感等极端环境应用具有直接意义。

⚡关键信息

  • ▸京都大学团队研制出可在600°C(873K)下工作的碳化硅晶体管
  • ▸采用标准离子注入工艺制造,与现有半导体产线兼容
  • ▸底栅设计配合离子注入,解决了高温漏电与电压漂移问题
  • ▸无需特殊工艺意味着可借常规晶圆厂实现量产
  • ▸应用面向航空航天、深井钻探、发动机传感等极端高温场景

🔥犀利点评

SiC耐高温不是新闻,新闻是「标准离子注入+底栅」就能做到600°C。过去高温SiC器件要么靠特殊外延、要么靠复杂结构,注定留在论文里。一旦工艺路径与主流产线兼容,高温传感这个长期被忽视的利基市场就可能被迅速商品化——胜负手不在材料,而在能不能上别人的产线。京都大学这次点中的正是产业化的命门。

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