eBeam Initiative Survey of Semiconductor Luminaries Predicts a Bright Outlook for the Photomask Industry

📋总体概括

eBeam Initiative发布第15届年度「行业泰斗」（Luminaries）调查结果，显示业界领袖对光掩模行业前景持乐观态度。该调查结果在SPIE Photomask Technology + EUV Lithography会议期间的现场活动上发布。光掩模作为先进制程芯片制造的图形载体，其景气度与EUV光刻、先进工艺投资节奏高度相关，此调查被视为掩模产业链的风向标。