NY Creates Announces Participation in 12-Inch Mask Industry Initiative to Advance High NA EUV Lithography Ecosystem

📋总体概括

纽约州半导体创新平台NY Creates宣布加入新成立的12英寸掩膜版产业联盟，该联盟旨在完善高数值孔径极紫外光刻（high NA EUV）的产业生态。随着high NA EUV走向量产，配套的12英寸大尺寸掩膜版基础设施成为关键短板，此次结盟表明产业界正围绕ASML下一代光刻机的量产落地，补齐从设备到材料的关键环节。