资讯🔥7.0
Molybdenum Quasi Phase-Only Masks Improve EUV Imaging (NYCU, TSMC)
📋总体概括
阳明交通大学与台积电联合发表论文，提出以钼为基础的「准纯相位掩模」技术，通过高反射率、低吸收的钼材料重构EUV相移掩模设计，据称可实现高对比度EUV成像。该研究基于严格电磁仿真验证，被视为EUV PSM技术的范式转变，若落地将直接影响先进制程光刻分辨率与掩模产业链。
⚡关键信息
- ▸阳明交通大学与台积电联合发表EUV掩模技术论文，聚焦钼基准纯相位掩模
- ▸钼材料具备高反射率与极低吸收特性，用于提升EUV成像对比度
- ▸研究称此举为EUV PSM技术的范式转变，经严格电磁仿真验证
- ▸成果发表于Semiconductor Engineering等行业媒体，尚处研究论文阶段
🔥犀利点评
把掩模从「吸收型」逻辑推向「相位型」逻辑，确实是光刻物理层面的聪明思路——EUV光源贵得离谱，每一点被掩模吸收掉的光子都是浪费。但论文级仿真到量产掩模之间隔着材料均匀性、缺陷控制和掩模厂工艺链三座大山，ASML/Zeiss体系未必欢迎颠覆式改动。台积电下场说明其确实在为High-NA之后的分辨率焦虑寻找出路，值得跟踪但别急着下注。
📰 相关资讯（与本文相关的其他资讯）
本文由本站自动聚合，以下为原始来源：前往 SemiEngineering 阅读全文 →