一块掩模，惊动台积电三星英特尔

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ASML一天连发三份公告，台积电、三星、英特尔罕见同时为其下一代High NA EUV光刻机背书。这场集体护航的真正焦点不是光刻机本身，而是掩模从6英寸迈向12英寸的产业豪赌——它决定AI大芯片能不能绕开曝光面积天花板，也决定未来十年先进制程的成本曲线。