台积电与阳明交大实现0.42纳米MoS₂界面突破

台积电与阳明交大在MoS₂界面实现0.42纳米级突破，推动制程叙事进入原子级尺度。该技术进展加剧了关于ASML光刻霸权与无掩模革命路线的讨论，半导体行业由此进入‘三线烧钱’模式，制程、封装与互连的竞争同步升级，对晶圆制造格局产生深远影响。