设备🔥9.0
直击CSEAC 2026:刻蚀、薄膜设备等龙头同台竞技 国产半导体设备多点突破
📋总体概括
CSEAC 2026在无锡开幕,1400余家企业参展,国内半导体设备全链条龙头齐聚。刻蚀、薄膜沉积领域的中微公司、北方华创、拓荆科技同台竞技并密集发布新品,国产化正从整机单点突破向核心部件、关键材料底层攻坚延伸,并从成熟制程向先进工艺与先进封装升级,产业竞争转向全链条生态协同。
⚡关键信息
- ▸CSEAC 2026在无锡开幕,7万平米展馆、1400多家企业、12万专业观众,为国内半导体设备最高规格展会之一
- ▸中微公司半年内二次集中发布高端新品,覆盖极高深宽比刻蚀、CVD、ALD、金属薄膜及碳化硅外延
- ▸国产化从整机单点突破转向核心部件与材料攻坚,并向先进工艺与先进封装的生态协同竞争演进
🔥犀利点评
展会规格再创新高,但生态协同的口号容易,核心部件真替代才是硬仗。
📰 相关资讯(与本文相关的其他资讯)
本文由本站自动聚合,以下为原始来源:前往 财联社深度 阅读全文 →