阿斯麦供应商：中国研发成熟EUV光刻机或需15年

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阿斯麦EUV光刻机光学系统独家供应商、德国蔡司半导体部门负责人罗蒙德称，中国研发EUV光刻机可能需约15年，实际进展难以量化。瑞银报告亦认为中国十年内难有国产替代。在美国出口管制下，荷兰限制阿斯麦对华出口先进设备，北京则巨资投入寻求自给自足。罗蒙德警告，若管制扩大至较旧DUV设备，反而会加速中国创新。