黄仁勋认为中国将在2030年前开发出自己的先进光刻芯片制造设备——英伟达CEO称实现该能力「只是时间问题」

📋总体概括

英伟达CEO黄仁勋公开判断，中国将在2030年前自主开发出先进光刻芯片制造设备，并称以三到四年时间线衡量，中国「已经到位」，实现该能力只是时间问题。这是美国科技巨头掌门人对中国半导体设备自主化前景的罕见公开背书，等于间接承认出口管制难以长期阻断中国先进制程工具的突破，对评估地缘限制的长期有效性具有标志性意义。