晶圆制造🔥9.0
摩尔定律有救了!泛林SA-CFET架构把CMOS推过1nm:SRAM面积暴缩52.7%
📋总体概括
泛林集团于9月29日提出自对准互补场效应晶体管(SA-CFET)架构,将NMOS与PMOS垂直堆叠,目标把CMOS晶体管推进至1nm及以下节点。imec在2026年7月路线图中预测2038年可达0.3nm等级工艺,并把CFET列为延续摩尔定律的核心方案。该架构可在相同平面面积内提升器件密度、增加有效沟道宽度并改善静电控制,SRAM单元面积可缩减52.7%。
⚡关键信息
- ▸泛林集团9月29日提出SA-CFET架构,目标将CMOS推进至1nm及以下节点
- ▸SRAM单元面积可缩减52.7%,显著提升密度
- ▸imec 2026年7月路线图预测2038年实现0.3nm等级工艺
- ▸CFET将NMOS与PMOS垂直堆叠,替代并排布置,增加有效沟道宽度
- ▸该架构同时改善静电控制能力,被视为突破物理极限的核心方案
🔥犀利点评
又是路线图上的大新闻:SRAM面积缩52.7%确实诱人,但CFET喊了这么多年,从论文到量产隔着热管理、堆叠良率和成本三座大山。别忘了摩尔定律早就从技术问题变成了经济学问题——0.3nm的晶圆厂一座要多少钱?泛林的设备生意需要新故事,读者需要点理智。
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