报告：中国已囤积343台浸没式DUV光刻机用于先进芯片制造

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智库Centre for Technology & Statecraft发布报告称，中国自2023年以来已囤积343台浸没式DUV光刻机，用于先进制程芯片制造与产能储备。该智库呼吁西方全面禁止浸没式DUV设备出口至中国，立场与美国国会议员提出的MATCH法案一致。报告折射出美国对华设备管制的政策辩论正从EUV扩展到DUV这一成熟制程关键环节，中国借管制收紧前的窗口期加速备货，中西方在半导体设备领域的博弈进一步升级。