西门子与NVIDIA将计算光刻加速至12倍

📋总体概括

西门子宣布与NVIDIA深化合作，通过NVIDIA的cuLitho计算光刻平台将计算光刻工作流大幅加速，最高达12倍。计算光刻是先进制程芯片制造中OPC等掩膜优化的核心环节，历来是耗时的算力瓶颈。借助GPU加速，芯片设计与制造环节可显著缩短掩膜处理周期，支撑下一代AI半导体的量产节奏，是EDA软件与GPU算力融合的标志性进展。