Intel 18A工艺就用了 台积电回应High NA EUV光刻机落后

📋总体概括

ASML的High NA EUV光刻机单台价格从约2亿美元升至约4亿美元，Intel抢先在去年底量产的18A工艺上导入，进度领先其他厂商4-5年；而曾率先量产EUV的台积电则宣布2030年才导入High NA，理由是该技术届时才足够成熟、成本合理，并计划2031年前与ASML确立12英寸光罩标准。台积电否认晚采用会构成劣势，核心顾虑在于设备与工艺成本高昂，且High NA视场缩小导致可生产芯片面积从约800mm²减半至400mm²左右。