西门子与NVIDIA加速下一代AI芯片的光刻技术

📋总体概括

西门子与NVIDIA深化合作，将NVIDIA的cuLitho GPU加速计算光刻库与西门子Calibre制造验证软件集成，加速计算光刻中最为耗时的光罩优化环节。计算光刻是先进AI芯片制造的关键瓶颈，双方旨在通过GPU算力大幅缩短光掩模处理时间，支撑下一代AI半导体的大规模生产，是EDA/IP与AI算力结合的代表性落地。