Intel称半导体技术上已经赶超台积电：个别差距无需吹毛求疵

📋总体概括

Intel CTO Pushkar Ranade在Dwarkesh Patel播客采访中宣称，在技术层面Intel已赶超台积电，性能、功耗、面积和密度差距仅剩几个百分点，无需吹毛求疵，但承认产能追赶仍是长期渐进过程。此前Intel高管曾表示其下一代14A工艺与台积电A14差距在5%以内，但未指明谁领先。关键胜负手不在技术指标，而在产能、良率、交付和代工价格。