设备🔥9.0
余承东曾称国产EUV可期！光刻机被抢疯了：ASML、佳能、尼康度在扩产
📋总体概括
全球光刻机供需持续吃紧：ASML三季报披露客户2027-2028年预订单已超出现有扩产计划，部分客户甚至咨询2029-2030年供货配额。ASML计划明年将低数值孔径EUV和浸没式DUV产能各提升30%，并对紧俏设备提价；佳能宣布明年半导体光刻设备产量最高接近今年两倍；尼康则启动高精度数字光刻设备研发，瞄准先进封装市场。AI算力基建需求爆发是本轮扩产的核心驱动力，全球半导体产能未来三年将集中释放。
⚡关键信息
- ▸ASML客户对2027、2028年设备预订单已超出现有扩产计划，核心客户开始咨询2029、2030年远期配额
- ▸ASML明年将低数值孔径EUV与浸没式DUV产能各提高30%，并与主要客户完成新一轮提价谈判
- ▸佳能计划明年半导体光刻设备产量最高接近今年的两倍，承接下游溢出订单
- ▸尼康启动更高精度数字光刻设备专项研发，重点布局先进封装芯片市场
- ▸余承东透露国内团队正全力攻坚EUV光刻机，现阶段国产先进芯片量产依托已国产化的DUV设备推进
🔥犀利点评
订单排到2029年还只是咨询配额，这已经不是扩产，是厂商被需求追着跑。ASML敢同步提价30%扩产，说明AI算力这波景气的确定性和持续性都远超以往周期。但对国产光刻机而言，窗口期是把双刃剑：全球产能三年集中释放后，竞争格局会更固化，国产EUV若不能在这个周期内跑通，等来的可能不是机会而是更深的封锁代差。余承东喊话可期，关键还得看工程化落地速度。
📰 相关资讯（与本文相关的其他资讯）
本文由本站自动聚合，以下为原始来源：前往 驱动之家 阅读全文 →