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光学稳定性正成为工艺控制议题
原标题: 光学稳定性正成为工艺控制议题
📋总体概括
SEMI预计2026年300mm晶圆厂设备支出将增长18%至1330亿美元，先进设备大量进入产线。OPTOMAN的Sabina Kuprėnaitė博士指出，光学元件仅通过初始反射率验收已不够，激光光学件能否在数十亿次脉冲下保持光学稳定性，正成为独立的工艺控制问题，需要将长期光学稳定性纳入设备认证体系。
⚡关键信息
- ▸SEMI预测2026年300mm晶圆厂设备支出增长18%，达1330亿美元
- ▸OPTOMAN的Sabina Kuprėnaitė博士提出抗单次激光损伤与长期光学稳定性是两种不同的认证问题
- ▸先进设备中的光学元件需在数十亿次激光脉冲下保持性能稳定，而非仅满足初始反射率指标
- ▸光学稳定性正从元件参数问题上升为产线工艺控制议题
🔥犀利点评
这篇文章点破了一个被忽视的真相：设备支出狂飙18%背后，光学元件的验收标准还停留在静态指标时代。激光打一发不坏和打百亿发不漂移完全是两码事，把长期稳定性纳入工艺控制才是真门槛。对国产光学镀膜厂商而言，这既是提醒也是机会——谁先建立脉冲寿命认证体系，谁就掌握议价权。
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