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没有EUV,国产芯卷出新活法?

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AI编辑团队AI 原创内容
2026-09-12 00:30 发布· 本文由作者与AI协作完成
本内容由人工智能生成,仅供研究参考,不构成投资建议。
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北方华创3D DRAM刻蚀突破、中芯国际份额爬升至5.4%、高通以600亿权证深度绑定亚马逊——三件事看似不相干,实则拼出同一个信号:在EUV禁运与AI算力饥渴的双重挤压下,全球半导体产业链正在换一种活法。

一周之内,半导体行业发生了三件看起来互不相干的事:北方华创在IEEE期刊上发论文,宣布3D DRAM刻蚀工艺突破;中芯国际二季度营收站上30亿美元,全球份额爬到5.4%;高通亚马逊签下一纸深度绑定协议,附带一份价值约40亿美元的认股权证。

三条新闻,三个角色,一个设备商、一个代工厂、一个芯片设计公司。但把它们摆在一起看,会发现一个共同的底层逻辑:当EUV的墙立在那里,聪明的玩家不再撞墙,而是找门。

这篇文章,我们就把这三块拼图拼起来,看看没有EUV的世界里,产业链正在怎么换活法。

🧪 绕开EUV,刻蚀成了新战场

先用一句话讲清3D DRAM是什么:把存储晶体管从平房盖成高楼。

传统DRAM的密度提升靠的是平面微缩——把晶体管越做越小。但物理极限摆在那里,平面微缩的边际成本越来越高。于是行业把目光转向三维堆叠,像3D NAND那样,把存储单元一层一层往上摞。楼盖得越高,密度越高,而对光刻的依赖反而可以下降。

这正是这次突破的精妙之处。北方华创的方案针对的是硅与硅锗交替堆叠的64层3D DRAM结构。制造流程中,需要把硅锗层精准刻蚀剥离,再在留下的硅层空隙里构建字线、位线和栅极等微观结构。

难在哪?难在“横着刻”。高深宽比结构下的横向选择性刻蚀一直是行业级难题——刻狠了硅骨架会受伤,刻轻了各层不均匀,整栋楼就是歪的。

北方华创的办法是把工艺拆成“刻”与“清”两步循环迭代:先用无偏置的电中性氟自由基对硅锗层定点刻蚀,再引入反应气体清理底部副产物沉积,保证刻蚀气体能垂直纵深穿透。据论文披露的数据:

指标数值意味着什么
硅锗与硅刻蚀选择比超过500:1刻锗基本不动硅
硅层单次损耗≤10埃(1纳米)64层楼的地基几乎无损
结构均匀度超过95%64对交替层整体可控
目标结构64层交替堆叠对标3D DRAM量产需求

这些数字意味着什么?意味着在不需要EUV的前提下,3D DRAM最卡脖子的工艺环节之一有了国产解法。业界普遍分析认为,长鑫存储若能整合北方华创的国产刻蚀设备与相关工艺,向3D DRAM自主量产演进的可行性将大幅提升。

值得注意的是,设备厂与存储厂这种“论文级”的深度协同,本身就在印证一个趋势——工艺研发不再是单点突破,而是设备、材料、制造绑在一起往前拱。近年来长鑫存储在历届中国国际半导体博览会上多次公开强调“设备-材料-制造协同创新”的路线,北方华创的刻蚀设备也早已进入其量产采购体系,这次的论文可以视作这条协同路线的自然延伸。

产业逻辑很清晰:EUV管住的是“画线”,管不住“刻楼”。 当堆叠路线绕开了光刻精度竞赛,封锁的有效边界就被重新划定了。

📈 中芯国际的5.4%,是DUV路线的复利

如果说北方华创的突破是“技术找门”,那中芯国际的二季报就是“路线兑现”。

根据TrendForce最新报告,中芯国际今年二季度在全球晶圆代工市场的份额达到5.4%,较一季度的5.1%小幅提升,稳坐全球第三大芯片制造商的位置。截至6月底的三个月内,其营收约30亿美元,而2025年同期为22亿美元,同比增幅相当可观——同期全球份额也较2025年二季度的约4.8%持续爬升,说明这不是靠价格战换来的虚假繁荣,而是整个供应链产能实打实地扩张。

(注:据TrendForce数据,全球代工收入二季度环比大涨14.6%创历史新高,台积电一家独占近七成,中芯国际为第三大玩家。)

支撑这份成绩单的,是中芯国际的“DUV极限微缩”路线:N+2,也就是7纳米级节点,华为的昇腾系列AI加速器等基础设施芯片就在上面生产;N+3,5纳米级节点,也已经向客户交付。整个体系完全基于DUV光刻——因为ASML的EUV光刻机出口受限,而全球能规模化量产EUV的只有这一家。

很多业外人有个误解,觉得没有EUV就“造不出先进芯片”。事实上,EUV解决的是效率和良率问题,DUV通过多重曝光等工程手段同样能抵达先进节点,只是成本更高、步骤更多、对良率管理的要求更苛刻。正如TrendForce等第三方机构在多份报告中反复指出的:多重曝光推高成本,但它是非EUV阵营抵达先进节点的成熟工程路径——代价是“难”,出路也是“难着难着就走通了”。

5.4%这个数字单独看不大,但它背后的产业逻辑是:在先进制程被卡住上限的情况下,国产代工通过成熟制程放量+DUV极限微缩双轮驱动,把规模和现金流先做起来,为下一阶段的技术跃迁攒弹药。 存储看长鑫存储,逻辑看中芯国际,两条腿走路,互为备份。

🤝 高通绑定亚马逊,一份40亿美元的“彩礼”

第三块拼图,来自需求侧,而且画风完全不同——这是一场资本深度介入的技术联姻。

9月8日,高通宣布与亚马逊达成跨多代产品的合作:双方将为大规模AI数据中心共同打造可规模化部署的定制芯片,围绕AI推理展开合作,并共同开发最高支持1.6T速率的光互连解决方案。

技术分工很清晰:亚马逊出AI基础设施的规模、安全性与成本性能优势;高通出低功耗处理、芯片设计和系统级集成的老本行。光互连部分则用上高通的SerDes高速串行器/解串器技术和光学DSP技术——这恰恰是AI集群扩张中最稀缺的“水管工”能力。

更值得玩味的是交易结构。SEC文件显示,高通已向亚马逊关联公司签发认股权证:行权价每股161.26美元,可购买最多2500万股普通股,无现金行使,有效期至2036年9月3日。按行权价计算,这份权证全部行使对应的价值约为40亿美元。基于初始采购承诺,375万股已于签发时归属。消息公布后,高通盘前股价涨超8%。

条款内容
认股权证规模最多2500万股普通股
行权价161.26美元/股
全部行使对应价值约40亿美元
有效期至2036年9月3日
已归属部分375万股(签发时)
合作范围定制芯片+1.6T光互连

这不是一份简单的采购合同,而是一份长达十年的利益捆绑——亚马逊拿到未来以固定价格增持高通的期权,高通拿到一个确定性极强的长期大客户。双方还约定高通进一步加大使用AWS的AI基础设施,包括用Amazon Bedrock跑EDA工作负载来缩短芯片设计周期。用AI设计芯片,再用芯片服务AI,飞轮就这么转起来了。

高通CEO克里斯蒂亚诺·阿蒙说得很直白:数据中心基础设施需要在计算和互连两方面同时进步。AWS副总裁Prasad Kalyanaraman则强调“长期合作的坚实基础”。

产业逻辑在于:AI时代的芯片生意正在从“造出来卖给你”变成“和你的数据中心长在一起”。定制芯片+超长周期权证,把客户关系做成了股权关系——这是需求侧写给供给侧的新契约范本。

⚠️ 三块拼图,一张地图

把三件事摊开看,一条暗线浮出水面:全球半导体产业的博弈重心,正在从“光刻机单点”转向“体系化绕行”。

供给侧,北方华创长鑫存储证明了一件事:封锁EUV,产业就用三维堆叠和刻蚀工艺把密度做回来——存储这条路天然适合“以堆叠换微缩”,属于典型的扬长避短。

制造侧,中芯国际用DUV极限微缩把5纳米级节点做进量产目录,同时靠规模效应把份额从一季度的5.1%推到二季度的5.4%。这个爬升速度不快,但方向稳定,且是在全球代工收入创历史新高、台积电一家独占近七成的格局下实现的——含金量要放在分母去看。

需求侧,高通亚马逊的联姻提醒我们:地缘约束之外,AI正在以更强大的商业力量重塑产业链。定制芯片、1.6T光互连、用AI跑EDA——当云厂商愿意掏出数十亿美元级别的权证去锁定芯片伙伴时,芯片公司的商业模式就变了。

三条线交汇处的推论是:未来的半导体竞争,不再是“谁有EUV谁赢”,而是“谁的体系协同效率更高”。 设备、材料、制造、设计、云,任何一环单打独斗都会被体系化打法碾压。对中国产业链来说,北方华创的论文和中芯国际的财报给出了同一个答案:被封锁的环节,用体系创新绕过去;被打开的市场,用商业模式锁下来。

回头看这三条新闻:一篇论文、一份财报、一纸权证。它们共同描绘的,是一个正在“换活法”的半导体世界——墙还是那堵墙,但门已经有人在走了。

接下来的看点有两个:一是长鑫存储何时把北方华创的刻蚀工艺整合进3D DRAM量产线,那将是国产存储从“追平面微缩”切换到“领跑垂直堆叠”的关键一跃;二是AI定制芯片的“权证模式”会不会被更多云厂商复制——如果是,芯片设计行业的客户结构将在未来五年被彻底改写。

EUV的墙还在,但墙上的门,越来越多了。