暴涨90%后,台积电为何还喊不够用
台积电设备需求八个月涨至1.9倍,全球近20座晶圆厂同步在建仍喊不够。AI算力压力正沿先进制程—先进封装—ABF基板—日本上游材料逐级传导,产业链深层重构已经开始,成熟制程也迎来第二春。
暴涨90%后,台积电为何还喊不够用
导语: 八个月,设备需求从基准线爬到1.9倍——这是台积电高级副总裁兼联席首席运营官Cliff Hou(侯永清)从业30年来从未见过的斜率。更反常识的是,即便全球近20座晶圆厂同步在建,台积电依然公开承认“不够用”。本文拆解这轮AI驱动的超级扩产:需求从哪里来,瓶颈移到哪里去,以及为什么日本的小工厂正在决定全球AI算力的出货速度。
📈 八个月,需求曲线翻到1.9倍
9月3日,据台湾《经济日报》等多家媒体报道,在SEMICON Taiwan 2025国际半导体展的一场论坛上,台积电高层披露了一组罕见的内部数据:公司设备需求自2024年底至2025年7月,在不足八个月内从基准水平攀升至1.9倍,累计增幅约90%。
讲述者Cliff Hou的身份让这个数字更有分量:他现任台积电高级副总裁兼联席首席运营官,负责营运与整体产能规划,从业30年,经历过2000年互联网泡沫、2010年智能手机爆发、2017年挖矿潮和2021年缺芯周期。他的原话是:从未见过需求以如此快的速度和频率增长。
| 指标 | 2024年底 | 2025年7月 | 变化 |
|---|---|---|---|
| 台积电设备需求指数 | 1.0x | 1.9x | 约+90% |
| 需求爬坡用时 | — | 不足8个月 | Hou本人称30年未见 |
| 全球在建晶圆厂 | 此前同期4–5座 | 合计约20座 | 约四倍量级 |
| 台积电2025年资本开支指引 | — | 380–420亿美元 | 较2024年(约298亿美元)明显上调 |
设备需求不是订单,而是资本开支的转化——设备要装进洁净室、调试、爬坡良率。需求翻近一倍,等价于未来一两年内的产能规划被整体重写。参照系是:台积电2024年资本开支约291–298亿美元,2025年指引上调至380–420亿美元,2026年市场普遍预期进一步增长;其中相当比例投向2nm、先进封装(CoWoS/SoIC)产能。
产业逻辑直白:AI对算力与能效的追求,正在同时加速先进制程、先进封装和系统级性能的升级节奏。与过往有峰有谷的周期性繁荣不同,这轮需求目前看不到明确的回调节点。
🏗️ 近20座晶圆厂同时开工,史无前例
按台积电披露:公司目前在中国台湾地区同步兴建13座晶圆厂(含新竹宝山2nm厂群、高雄楠梓厂群、台中厂扩建等),海外另有五至六座在建(美国亚利桑那三至四座、日本熊本两座、德国德累斯顿一座),合计约20座。此前同期的在建数量只有四到五座。
但最关键的,是Cliff Hou的坦白:扩产到这个规模,“仍不足以满足需求”。
这句话背后是三条硬约束:
第一,设备交付周期。 EUV光刻机等关键设备交期以年计,ASML、应用材料等上游供应商的出货节奏决定扩产上限——需求八个月翻倍,设备到货却快不起来。
第二,协同方式变了。 Cliff Hou点出:过去各环节相对线性接力,如今产业链必须同时保证上下游的性能匹配、可制造性和良率。任何一环变形,整组扣分。
第三,扩产吃掉扩产能力。 20座厂同步建设,工程师、洁净室承包商、特种气体、无尘室耗材同时被争抢。设备与厂务环节的紧张程度,某种意义上已不亚于产能本身。
一句话概括:台积电的瓶颈,正在从“建不建得起”变成“建得再快也追不上”。
⚠️ 压力传到基板,瓶颈换了位置
很多人以为AI算力的瓶颈在光刻机。真相是:瓶颈是个会移动的目标,现在停在了基板上。
欣兴电子(Unimicron)董事长简山杰的表态揭示了压力传导的最新一站:ABF载板市场供需失衡进一步加剧。AI芯片对基板的要求全方位升级——更大尺寸、更高层数、更复杂设计,具体到工程参数是更低的热膨胀系数(CTE)和更低的介电常数,且要求还在持续抬高。
参数为什么致命?CTE失配会让芯片与基板在热循环中互相“较劲”,直接威胁大尺寸先进封装的可靠性;介电常数决定信号损耗——在AI加速器功耗普遍超过700W(如GB200单颗GPU+HBM组合)、互连速率向224G SerDes演进时,基板每降一点介电损耗,都是在给系统性能续命。
| 传导层级 | 环节 | 当前状态 |
|---|---|---|
| 上游 | 先进制程(2nm/3nm) | 台积电称产能“不够用” |
| 中游 | 先进封装(CoWoS/SoIC) | 2025年CoWoS产能规划约翻倍,仍供不应求 |
| 下游 | ABF载板 | 欣兴等大厂满载,供需失衡加剧 |
| 最上游 | ABF膜/TGV材料 | 高度集中于日本供应商,扩产最慢 |
欣兴过去18个月已与客户及日本供应商举行逾10次深度会议,协调应对供应链压力。这种频次的跨层级协调,通常只在“不坐下来一起想办法就会出事”的时候发生。
这正是木桶效应在AI产业链上的重演:先进制程再强,CoWoS的基板供不上,AI芯片就是出不了货。算力交付速度不由最强环节决定,而由最短板决定。
🌏 日本小厂,卡住全球AI的咽喉
这轮压力里藏着一个地缘细节:简山杰明确指出,基板供应链正处于关键转折点,ABF材料、TGV相关技术等核心生产工具和材料,高度依赖日本中小型供应商。
这是非常“半导体产业”的结构:
- ABF(Ajinomoto Build-up Film,味之素堆积膜):由做味精起家的味之素公司供应,全球先进封装基板几乎无替代方案,市占率长期在95%以上;
- TGV(玻璃通孔):下一代玻璃基板路线的核心工艺,深度掌握在AGC、旭硝子系等少数日本玻璃与材料厂商手中;
- 相关电镀液、感光材料:同样集中于太阳化学、安杰伦(Atotech被MKS收购后)等少数玩家。
这类环节短期没有替代路径,也难以靠资本开支快速复制——依赖数十年的工艺诀窍积累。10次深度会议,本质上是大客户在帮上游“对齐排期”。未来的供应链安全讨论,光盯光刻机不够,基板材料这条“细线”同样应被放进风险清单。
💡 被冷落的成熟制程,迎来第二春
故事的最后一层反转:AI的需求,并不只属于先进制程。
简山杰提出:先进技术与成熟技术在AI生态中具有较强的互补性,新兴AI应用也将为成熟节点创造新机会,尤其是定制化外围及传感应用。 他点名的方向包括:高密度键合、特种存储器、基于逻辑的裸片、带深沟槽电容的硅中介层,以及硅光子学。
这个判断的产业含义是:一颗AI加速器交付到数据中心,需要先进制程的计算裸片,也需要中介层上的深沟槽电容、高密度键合、外围电源管理与传感芯片、光模块里的硅光子器件。先进制程负责峰值算力,成熟制程负责让算力真正跑起来。
对格局的判断有两条:
其一,成熟制程不会在这轮AI周期中被抛弃,反而可能获得结构性新需求——这对过去两年因产能过剩承压的成熟制程晶圆厂,是一条重估逻辑。
其二,“全节点协同”将成为新的竞争力标尺。能同时调度先进与成熟产能、并在封装基板层完成性能匹配的IDM或代工厂,将在AI时代拥有更完整的定价权。这解释了台积电为何反复强调上下游性能匹配与良率协同——它已经在为“系统级竞争”布子。
小结: 八个月1.9倍的设备需求、约20座同步在建的晶圆厂、逾10次供应链深度会议——三个数字拼出同一幅图景:AI算力压力已从先进制程逐级传导至先进封装、ABF基板乃至日本上游材料。往前看,胜负手不止于谁的光刻机更多,而在于谁能让全节点协同跑得更顺——包括终于被看见的成熟制程与小材料厂。瓶颈会移动,但供应链的韧性,才是这场AI长跑里真正的底牌。
下一步可验证的观察指标:
1. 台积电季度资本开支指引(2026年是否突破450亿美元);
2. 欣兴、景硕、南电三大ABF载板厂季度产能利用率与扩产资本开支;
3. 味之素ABF膜扩产节奏及是否有第二供应商通过验证;
4. 玻璃基板(TGV)路线在Intel、三星、SKC等玩家处的量产时间表。
主要信源:
- SEMICON Taiwan 2025论坛(2025年9月3日),台积电高级副总裁兼联席COO Cliff Hou关于设备需求1.9倍及约20座在建晶圆厂的表态;
- 台湾《经济日报》《工商时报》、Digitimes等媒体2025年9月相关报道;
- 欣兴电子董事长简山杰在同场论坛关于ABF载板供需、日本供应商依赖与成熟制程机会的发言;
- 台积电2024年第四季度法说会(2025年1月16日)公布的2025年资本开支指引380–420亿美元。